На данный момент группа компаний «Лассард» создала два опытных образца лазера. Испытания начнутся в следующем году, а в 2026 году должно быть запущено серийное производство. Отечественный лазер будет использоваться в литографе, позволяющем выпускать 350-нанометровые чипы, но позже планируется переход на техпроцесс 130 нм. Более того, ведется работа над освоением более тонких техпроцессов.

«Лазер дает возможность модифицировать характеристики в сторону более тонкой топологии. Более того, скажу, что мы уже ведем работу на перспективу, разрабатывая материалы и заказывая работы для установок 90 нм и 65 нм», — сказал Василий Шпак.